小型溅射仪

KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

如何选用最合适的晶振片

(1)镀低应力膜料时，选择镀金晶振片

2)使用镀银或银铝合金镀高应力膜层

3)使用银铝合金晶振片镀介质光学膜

晶振片工作原理

·石英晶体压电效应的固有频率不仅取决

于其几何尺寸，切割类型，而且还取决

于芯片的厚度。当芯片上镀了某种膜层

使芯片的厚度增大，则芯片的固有频率

会相应的衰减。石英晶体的这个效应是

质量负荷效应。石英晶体膜厚监控仪就

是通过测量频率或与频率有关的参量的

变化而监控淀积薄膜的厚度。

如何选用最合适的晶振片

(1)镀低应力膜料时，选择镀金晶振片

2)使用镀银或银铝合金镀高应力膜层

3)使用银铝合金晶振片镀介质光学膜